非零色散位移单模光纤(ITu—G.655)是1994年美围朗讯公司和康宁公司专门为新一代带有光纤放大器的波分复用传输系统设计和制造的新型光纤。这种光纤是在色散位移单模光纤的基础上通过改变折射剖面结构的方法来使得光纤在l 550nm，波长处的色散不为零，故被称为非零色散位移单模光纤。
非零色散位移单模光纤的基本设计思想是在1550nm波长区域内具有合理的低色散，足以支持10Gbit/s的长距离传输而无需色散补偿;同时，其色散值又必须保持非零特性来抑制四波混频和交叉相位调制等非线性效应的影响，以求同时满足开通时分复用和密集波分复用系统的需要。为此，人们在研发出了第一代非零色散位移单模光纤的基础上，又陆续开发出第二代产品，如低色散斜率非零色散位移单模光纤、大有效面积非零色散位移单模光纤和色散平坦型非零色散位移单模光纤。三种G.655光纤色散斜率的比较如图所示。
为使非零色散位移单模光纤在1550nm附近工作波长区呈现出非零色散特性，通过改变光纤折射率剖面形状，即通过改变其波导色散的方式来使得零色散点移向短波长侧或K波长侧，进而制造出正色散非零色散位移单模光纤和负色散非零色散位移单模光纤。
在两种不同零色散点偏移方向的c 655光纤中，具有正色散的G.655光纤的主要优点是可以利用色散补偿其一阶和二阶色散。另外，在1550nm波长附近色散为正，有可能与r。生负啁啾的MZ外调制器结合，利用自相位调制技术来扩大色散受限传输距离乃至实现光孤子传输。它的主要缺点是可能产生所谓的凋制不稳定性.
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